HMS-C 残余气体分析仪 (法拉第杯)

HMS 系列残余气体分析仪面向精密流体控制与超高纯流体系统，为先进半导体工艺提供快速、可靠的气体分析与监测。

采用双灯丝离子源设计，减少更换频率，降低长期使用与维护成本；提供法拉第杯检测器，适用于微量气体监测。结合高速信号采集与实时数据分析，可及时反馈现场气体状态。

能够实现对半导体生产过程中的原位监测，可直接监测空气泄漏、工艺气体浓度变化、碳氢化合物及其他微量污染气体，有效提高半导体生产过程的稳定性。

配套分级真空系统，通过分子泵、前级机械泵与真空微调阀的协同工作实现差分真空控制；管路标配 DN40KF 真空法兰接口，可按需选配 DN63CF 等多种接口。